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    曝光機(jī)
    Main parameter

    1. 設(shè)備功能:按制程要求在玻璃基板之感光膜上通過(guò)掩膜曝光產(chǎn)生感光圖案,為下一步圖案顯影作準(zhǔn)備

    2. 設(shè)備外形尺寸:(L)2000×(W)1765×(H)2200mm

    3. 重量:1200Kg

    4. 基板尺寸: 470X370mm(寬度方向?yàn)?70mm)

    5. 基板厚度: 0.4~1.1mm

    6. 曝光精度: ±0.03mm

    7. 寬線距范圍 :±10um

    8. 平臺(tái)平面度: ±0.02mm

    9. GAP重復(fù)精度: ±10μΜ

    10. 曝光燈散布均勻性: >90%以上(測(cè)25點(diǎn),計(jì)算公式:小值/[敏感詞]值)

    11. 自動(dòng)MARK對(duì)位: 自動(dòng)對(duì)位

    12. 曝光光強(qiáng)度: 35mw/cm2以上

    13. 曝光燈類型: 平行曝光燈

    14. 生產(chǎn)效率: 20s/pcs(100mj)

    15. 平臺(tái)材質(zhì): 硬鋁合金,表面黑色硬質(zhì)氧化

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